鍍膜種類劃分情況

鍍膜按類型劃分，首先可以分為：干式鍍膜和濕式鍍膜兩種。

其中干式鍍膜主要有：真空蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、真空離子鍍膜

3

種

真空蒸發(fā)鍍膜可細分為：

電阻蒸發(fā)鍍膜（適用于蒸發(fā)低熔點材料，如金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等）

電子束蒸發(fā)鍍膜（可蒸發(fā)難熔金屬，如鉬、鎢、鍺、二氧化硅、氧化鋁等）

高頻感應加熱蒸發(fā)鍍膜（蒸發(fā)速率達，蒸發(fā)源溫度穩(wěn)定，

操作簡單，對材料純度要求較

寬。

）

電弧加熱蒸發(fā)鍍膜（特別適用于熔點高，

同時具有一定導電性的材料，

如石墨；裝置簡

單，較廉價，缺點是放電產生的微米級顆粒會影響膜的一致性）

激光束蒸發(fā)鍍膜（可蒸發(fā)任何高熔點材料）

反應蒸發(fā)鍍膜（蒸鍍難熔化合物，如氟化鎂、氧化鋇、氧化錫等）

濺射鍍膜可分為：

直流二極濺射：僅適用于導電膜

直流三極濺射：僅適用于導電膜

直流四極濺射：僅適用于導電膜

射頻濺射：采用射頻電源，可鍍氧化硅，氧化鋁材料

對向靶濺射：可提高沉積速率，制取磁性鐵、鎳和其他磁性合金膜

離子束（

IBS

）濺射：利用離子源發(fā)出離子

磁控濺射：

碳硫分析儀在直流二極濺射的基礎上，

在靶材后面安放了磁鋼，

使用弧光發(fā)

電，用于蒸發(fā)源。

真空離子鍍膜可分為：

陰極電弧離子鍍：

提高了沉積速率和膜的質量；

還可生成致密均勻，

附著力優(yōu)良的化合

物膜

空心陰極離子鍍：使用空心陰極等離子電子束

多弧離子鍍

濕式鍍膜可分四種：

電鍍

陽極氧化

化學鍍

化學轉化膜處理