對于那些不太了解真空設(shè)備行業(yè)的朋友來說，他們大多不知道磁控鍍膜機在運行過程中應(yīng)該注意和具備哪些事項，包括其運行環(huán)境要求、標(biāo)準(zhǔn)和運行原理。下面的小系列會詳細(xì)介紹給大家，讓大家對磁控濺射鍍膜機有一個全新的認(rèn)識。

各種鍍膜技術(shù)都需要一個蒸發(fā)源或蒸發(fā)靶，以便將蒸發(fā)的成膜物質(zhì)轉(zhuǎn)化為氣體。隨著來源或目標(biāo)的不斷提高，電影制作材料的選擇范圍也大大擴大。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機物，都可以氣相沉積各種金屬膜和介質(zhì)膜，不同的材料可以同時氣相沉積得到多層膜。

蒸發(fā)或濺射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過程。膜厚可以精確測量和控制。磁控鍍膜機的真空鍍膜技術(shù)的特點主要包括真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍、真空束沉積和化學(xué)氣相沉積。

隨著來源或目標(biāo)的不斷提高，磁控鍍膜機的制作材料的選擇范圍也大大擴大。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機物，都可以氣相沉積各種金屬膜和介質(zhì)膜，不同的材料可以同時氣相沉積得到多層膜。在與待鍍工件形成薄膜的過程中，可以精確地測量和控制蒸發(fā)或濺射成膜材料的膜厚，從而保證膜厚的均勻性。由于涂布設(shè)備的不斷改進(jìn)，涂布過程可以連續(xù)進(jìn)行，從而大大提高了產(chǎn)品的產(chǎn)量，生產(chǎn)過程中對環(huán)境無污染。